Обзор технологии формирования аморфного кремния методами CVD осаждения

Московский Государственный Технический Университет им. Н.Э. Баумана (МГТУ им. Н.Э.Баумана)

11 - Электронные технологии в машиностроении

Вирабян Саргис Камоевич

Третий (бакалавриат)

Баклыков Дмитрий Алексеевич (Кандидат наук, МГТУ им. Н. Э. Баумана, НОЦ "Функциональные Микро Наносистемы" )

Представлен обзор современных методов химического осаждения из газовой фазы (CVD), применяемых для формирования пленок аморфного кремния. Целью работы является сравнительный анализ методов CVD и выявление взаимосвязей между параметрами осаждения и выходными характеристиками пленки. Анализируется влияние давления, температуры, расхода и соотношения газов, а также других технологических параметров процесса на структуру, скорость роста и свойства получаемых пленок. Результаты обзора будут использованы при выборе технологического процесса формирования пленок аморфного кремния в микроэлектронике.