Доклады и статьи конференции
← Назад | Перейти в архивКарточка работы #3780
Название
Исследование энергетической характеристики плазмы источника ионов для уменьшения остаточных напряжений в тонких пленках
Организация
Московский Государственный Технический Университет им. Н.Э.Баумана (МГТУ им. Н.Э.Баумана)
Секция
11 - Электронные технологии в машиностроении
Авторы
Купцов Алексей Дмитриевич
Егорова Светлана Игоревна
Фельде Анастасия Александровна
Пименов Илья Евгеньевич
Курс обучения
Аспирант (1 год) (аспирантура)
Научный руководитель
Сидорова Светлана Владимировна (Кандидат наук, МГТУ им Н.Э Баумана, кафедра "Электронные технологии в машиностроении")
Аннотация
Описаны причины появления остаточных напряжений в тонкопленочных многослойных покрытиях. Приведены недостатки наличия остаточных напряжений. Предложены решения для уменьшения остаточных напряжений. Обоснована актуальность применения источника ионов. Получены количественные значения потенциала пространства электронной и ионной частей, определены концентрации и температуры ионов и электронов.
Библиографическая
ссылка
ссылка
Если Вы обнаружили ошибку - пожалуйста, напишите нам
Сопредседатель оргкомитета конференции
Гладков Ю.А.