Доклады и статьи конференции

← Назад | Перейти в архив

Карточка работы #2376

Название
Изучение технологических возможностей установки низкочастотной обработки изделий в плазме низкого давления MPC
Год
2018
Организация
Московский Государственный Технический Университет им. Н.Э.Баумана (МГТУ им. Н.Э.Баумана)
Секция
11 - Электронные технологии в машиностроении
Авторы
Павленко Артем Дмитриевич
Рогожин Андрей Александрович
Васильев Денис Дмитриевич
Курс обучения
Третий (бакалавриат)
Научный руководитель
Моисеев Константин Михайлович (Кандидат наук, Доцент, МГТУ им.Н.Э.Баумана, кафедра "Электронные технологии в машиностроении")
Аннотация
В работе кратко описаны технологические процессы обработки изделий в плазме низкого давления. Также показаны области применения плазменной обработки. Представлена разработанная установка низкочастотной плазменной обработки MPC (Multi Plasma Cleaner). Получены результаты исследования технологических возможностей установки MPC, а именно зависимость мощности разряда от расстояния между электродами, рабочего давления и напряжения разряда. Даны рекомендации по подбору параметров процесса для проведения низкочастотной плазменной обработки.
Тезисы
Библиографическая
ссылка
Павленко А. Д., Рогожин А. А., Васильев Д. Д. Изучение технологических возможностей установки низкочастотной обработки изделий в плазме низкого давления MPC. [Электронный ресурс] // Всероссийская научно-техническая конференция «Студенческая научная весна: Машиностроительные технологии»: материалы конференции, 3 – 6 апреля, 2018, Москва, МГТУ им. Н.Э.Баумана. – М.: ООО «КванторФорм», 2018.– № гос. регистрации 0321800963.– URL: studvesna.ru?go=articles&id=2376 (дата обращения: 26.04.2018)
Если Вы обнаружили ошибку - пожалуйста, напишите нам
Сопредседатель оргкомитета конференции
Гладков Ю.А.